<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Залізо on UV Curing Zone</title>
		<link>http://uv-curing-zone.com/uk/tags/%D0%B7%D0%B0%D0%BB%D1%96%D0%B7%D0%BE/</link>
		<description>Recent content in Залізо on UV Curing Zone</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 10:43:49 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-zone.com/uk/tags/%D0%B7%D0%B0%D0%BB%D1%96%D0%B7%D0%BE/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>УФ лампа з залізом та галієм</title>
				<link>http://uv-curing-zone.com/uk/posts/iron-gallium-uv-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 10:43:49 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-zone.com/uk/posts/iron-gallium-uv-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-zone.com/images/b717d9f0742111373c1b4fa943a6ce46.png&#34; alt=&#34;УФ лампа з залізом та галієм&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На поверхні матеріалу швидкість процесу висихання залежить від кінетики процесу висихання, а не від стабільності електромережі. Зміни напруги впливають прямо на лампи з ртутним випаром – саме там, де найважливіша є потужність дуги – і це призводить до змін спектру випромінювання. Фотоініціатори не можуть належним чином виконати свою функцію, що призводить до виникнення браку продукції, уповільнення процесу висихання та постійного навантаження на пристрій.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим у суті&lt;/strong&gt;&#xA;У нас використовується УФ-лампа з железом та галієм, яка має спеціальну систему компенсації, яка забезпечує стабільну потужність лампи, навіть коли напруга електромережі змінюється. Хімічний склад камери дуги налаштований так, щоб домінуючі лінії випромінювання знаходилися на довжині хвилі 365 нм та 395 нм. Це забезпечує стабільний потік фотонів у місцях, де їх поглинають фотоініціатори. Максимальна інтенсивність випромінювання залишається стабільною протягом усього процесу обробки матеріалу, що запобігає змінам щільності крісталізації. Лампа не виробляє озону, а відбивач має дихроїчне покриття, яке повертає корисне УФ-випромінювання назад у камеру дуги, замість того, щоб він перетворювався на інфрачервоне випромінювання.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
